Chiller制冷技術為半導體行業提供解決方案

Chiller制冷技術為半導體行業提供解決方案

Chiller制冷技術為半導體行業提供解決方案

在薄膜沉積工藝中，Chiller系統的性能直接影響到薄膜質量和工藝穩定。隨著半導體和顯示面板行業的發展，對薄膜沉積工藝的溫度控制要求越來越高。

一、Chiller系統選型要點

薄膜沉積工藝對溫度控制有著較高的要求。在選型時，首先要準確計算工藝設備的散熱負荷，考慮熱負荷和動態負荷變化。

溫控精度是選型的關鍵指標。建議選擇采用PID控制算法的機型，能夠實現溫度調節。同時，要考慮系統的響應速度，確保能夠快速響應工藝溫度變化。

水質要求也是選型的考慮因素。薄膜沉積工藝通常要求使用超純水作為制冷介質，因此需要選擇能夠滿足高水質要求的Chiller系統。建議選擇配備完善水處理系統的機型，包括去離子裝置和微生物控制設備。

二、安裝注意事項

Chiller系統應盡量靠近工藝設備，縮短管路長度，減少熱損失。同時要預留足夠的維護空間，確保日常維護和檢修的便利性。

管路設計需要考慮熱膨脹和振動隔離。建議采用不銹鋼管路，減少腐蝕風險。在關鍵位置安裝膨脹節和減震器，防止熱應力和振動對系統的影響。

電氣安裝要符合相關規范，確保接地可靠。建議為Chiller系統配置配電柜，并安裝過載保護和漏電保護裝置?？刂凭€路要采用隔離電纜，防止電磁干擾。

系統調試是安裝的重要環節之一。首先要進行水系統沖洗，確保管路清潔。然后進行系統試運行，檢查各部件運行狀態，調整控制參數，確保系統達到設計要求。