半導體制冷加熱一體機-高低溫循環裝置

無錫冠亞冷熱一體機 

解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置， 

用以滿足間歇反應器溫度控制 

或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。 

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于：

高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；

小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

半導體制冷加熱一體機-高低溫循環裝置

半導體制冷加熱一體機-高低溫循環裝置

　　無錫冠亞半導體制冷加熱一體機，主要用于半導體測試中的溫度測試模擬，具有寬溫度定向和高溫升降，溫度范圍-92℃~250℃，適合各種測試要求。半導體制冷加熱一體機在用于惡劣環境的半導體電子元件的制造中，IC封裝組裝和工程和生產的測試階段包括在溫度（-85℃至+ 250℃）下的電子冷熱測試和其它環境測試模擬。

　　當控溫物件需要降溫時，壓縮機開始運行工作，將系統中制冷劑壓縮成高溫高壓的氣體，從高壓排氣口進入冷凝器，冷凝器配散熱風機，通過強制空氣流動，將系統中冷媒降溫成常溫高壓的液體，冷媒經過過濾器濾掉系統中的雜質和水分，通過節流閥，進入蒸發器，冷媒變成低溫低壓的氣體，吸收循環水的熱量，達到制冷的目的，冷媒又經過壓縮機吸氣口回到壓縮機進行下一個循環；同時被冷卻的冷通過循環泵，將冷水輸送到被降溫物件進行降溫，繼而返回從新繼續降溫，如此周而復始，使被降溫物體溫度降低，達到降溫恒溫的工藝要求。

當半導體制冷加熱一體機主機加熱（制冷）完成時，冷熱一體機的熱水系統水循環泵進行反抽，將熱水抽回熱水箱；同理，冷水系統循環泵進行反抽，將冷水抽回冷水箱。這就是冷熱一體機控溫的整個過程。