全封閉實驗室高低溫循環裝置-冷熱循環槽

無錫冠亞冷熱一體機 

解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置， 

用以滿足間歇反應器溫度控制 

或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。 

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于：

高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；

小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

全封閉實驗室高低溫循環裝置-冷熱循環槽

全封閉實驗室高低溫循環裝置-冷熱循環槽

　　無錫冠亞全封閉實驗室高低溫循環裝置可以一臺加熱系統主機+載冷劑控制換熱單元可以控制多達2～20臺不同大小反應釜，而且每個反應釜可以控制在不同的溫度，當然，不同的全封閉實驗室高低溫循環裝置型號不同，其全封閉實驗室高低溫循環裝置價格也是不一樣的。

　　全封閉實驗室高低溫循環裝置具有結構合理、操作簡便、穩定性能好等特點，采用全密閉管道式設計，采用板式熱交換器，降低導熱液需求量的同時，提高系統的熱量利用率，達到快速升降溫度，可以降低導熱介質在運行中吸收水分和揮發的風險，所以被廣泛應用于大專院校、、生化、醫療、化工、科研等領域。

　　通入隔離加熱制冷循環器反應釜的導熱個質要求保持溫度恒定，通過調節流入反應釜夾套的導熱介質的流量，來控制反應釜內物料的溫度符合工藝要求。現代工業的發展對產品質量提出了更高的要求。

　　隔離加熱制冷循環器只用同一種介質就可以快速響應控制溫度，可以在-120℃~300℃范圍內實現流體系統控溫。單一壓縮機制冷技術可以達到-150℃的較低溫度，并且體積更小，更容易抬放。

　　全封閉實驗室高低溫循環裝置將其它需要冷卻的儀器或設備產生的熱量傳遞出來，通過制冷系統將熱量散發到設備外部，從而保證設備在正常的溫度范圍內工作。全封閉實驗室高低溫循環裝置裝置與儀器設備之間依靠裝置內水泵壓力形成封閉介質循環，由溫度傳感器檢測介質溫度，實施對制冷機的控制。

　　無錫冠亞全封閉實驗室高低溫循環裝置廣泛應用于制藥化工行業中多種實驗設備中，以導熱油為傳熱介質，以制冷劑為冷卻液實現制冷加熱的控溫過程。