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半導(dǎo)體薄膜沉積直冷機CVD chiller溫控技術(shù)從系統(tǒng)架構(gòu)到算法的控溫解決方案

 更新時間:2025-06-20 點擊量:318

    在半導(dǎo)體制造過程中,薄膜沉積工藝對溫度控制的精度要求苛刻,直接影響材料的晶體結(jié)構(gòu)、薄膜均勻性及器件性能。薄膜沉積直冷機CVDchiller作為實現(xiàn)準(zhǔn)確控溫的核心設(shè)備之一,其溫度控制能力依賴于系統(tǒng)設(shè)計、硬件配置及算法優(yōu)化的協(xié)同作用。

    一、直冷機控溫的硬件基礎(chǔ)與系統(tǒng)設(shè)計

    薄膜沉積直冷機CVDchiller采用全密閉循環(huán)系統(tǒng)設(shè)計,避免了傳統(tǒng)式系統(tǒng)中導(dǎo)熱介質(zhì)揮發(fā)及外界雜質(zhì)侵入的問題,確保控溫過程的穩(wěn)定性。其循環(huán)系統(tǒng)采用磁?驅(qū)動泵,配合全密閉管路設(shè)計,可防止低溫環(huán)境下空氣中水分的吸收及介質(zhì)揮發(fā),從而避免因介質(zhì)性質(zhì)變化導(dǎo)致的控溫偏差。

    在制冷系統(tǒng)設(shè)計上,薄膜沉積直冷機CVDchiller多采用單?壓縮機多級復(fù)疊技術(shù)或低溫復(fù)疊制冷技術(shù)。部分機型通過單壓縮機復(fù)疊技術(shù)實現(xiàn)低溫控制,而低溫復(fù)疊系列則可在寬泛的溫度范圍內(nèi)保持控溫精度。這種不僅拓展了溫度控制范圍,還通過多級調(diào)節(jié)實現(xiàn)了不同溫度區(qū)間的準(zhǔn)確制冷量輸出,避免了單一制冷模式下溫度過沖或波動的問題。

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    二、控溫過程中的關(guān)鍵技術(shù)與算法應(yīng)用

    1、傳感器與數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)

    薄膜沉積直冷機CVDchiller系統(tǒng)內(nèi)設(shè)置有壓力傳感器、溫度傳感器等元件,實時監(jiān)測制冷劑的排吸氣溫度、冷凝溫度、進出液體溫度等關(guān)鍵參數(shù)。這些傳感器通過接入控制系統(tǒng),形成閉環(huán)反饋機制,確保控制器能夠根據(jù)實時數(shù)據(jù)調(diào)整輸出,實現(xiàn)動態(tài)控溫。

    2、控制算法的協(xié)同作用

    為實現(xiàn)快速響應(yīng)與高精度控制,薄膜沉積直冷機CVDchiller通常應(yīng)用多種控制算法。在系統(tǒng)中集成了PID、前饋PID及無模型自建樹算法,通過算法協(xié)同優(yōu)化控溫過程。其中,PID算法用于常規(guī)溫度調(diào)節(jié),前饋PID則可預(yù)測負載變化對溫度的影響并提前補償,而無模型自建樹算法能根據(jù)系統(tǒng)運行狀態(tài)自動優(yōu)化控制參數(shù),適應(yīng)不同工藝場景的需求。

    3、執(zhí)行機構(gòu)的準(zhǔn)確調(diào)節(jié)

    節(jié)流裝置與變頻技術(shù)的應(yīng)用可保證控溫精度。薄膜沉積直冷機CVDchiller普遍采用電子膨脹閥作為節(jié)流元件,相比傳統(tǒng)的熱力膨脹閥,電子膨脹閥可根據(jù)控制器指令準(zhǔn)確調(diào)節(jié)制冷劑流量,響應(yīng)速度更快,調(diào)節(jié)精度更高。同時,變頻壓縮機和變頻泵的使用實現(xiàn)了熱量的按需分配。

    三、工藝適配與可靠性保障

    1、溫度范圍與介質(zhì)兼容性

    不同薄膜沉積工藝對溫度的需求不同,薄膜沉積直冷機CVDchiller通過靈活的溫度擴展設(shè)計滿足多樣化需求。

    2、安全設(shè)計與可靠性驗證

    為確保控溫過程的可靠性,薄膜沉積直冷機CVDchiller在制造過程中經(jīng)過嚴(yán)格測試。同時,系統(tǒng)具備完善的安全保護功能,包括壓力保護、過載繼電器、熱保護裝置等,防止因異常情況導(dǎo)致溫度失控。

    薄膜沉積直冷機CVDchiller通過硬件架構(gòu)的優(yōu)化、多算法協(xié)同控制及工藝適配設(shè)計,實現(xiàn)了材料溫度的準(zhǔn)確控制。在半導(dǎo)體制發(fā)展的趨勢下,為制程中的薄膜沉積工藝提供可靠的溫度保障。


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